铬酸阳极氧化工艺见表-4。氧化过程中应经常进行浓度分析，适时添加铬酐。电解的阴极材料可用铅、
铁、不锈钢，的阳阴面积比为(5: 1) - (10: 1)。当溶液中三价铬离子多时，可用电解的方法使其
氧化成六价铬离子。溶液中的硫酸盐含量超过0. 5%，阳极氧化效果不好，硫酸根离子多时可加入
或者唉酸钡使其生成硫酸钡沉淀。溶液中氯化物含量不应超过0. 2g/L。溶液中铬含量超过70g/L时就应稀
释或更换溶液。铬酸阳极氧化有电压周期变化的阳极氧化方法或恒电压阳极氧化法( 快速铬酸法)两种。
阳极氧化生成的氧化膜厚度从理论上可按法拉第第二定律推导的公式进行计算。
0= Kit
式中。为阳极氧化膜厚度(μm) ，I为电流密度(A/dm2) ，半自动阳极氧化生产线，t为氧化时间(min) ，K为系数(当氧化铝
密度γ=kg/立方米则K=0.309)。上述 公式计算的前提是以认为通过的电量全用于氧化铝析出，阳极氧化设备，同时也把
氧化铝及膜的密度视为纯净的氧化铝密集的值。但实际情况并非完全如此，为了使K值更切合实际，应将
电流效率和在这种工艺条件下所生成膜的密度或孔隙度考虑在内，即:
K= 1.57 η/γ
式中η为电流效率(电极上实际析出的物质量与又总电量换算出的析出物质量之比)。K实值各国取值大
小各异，美国有取0.328、0. 285-0.355，日本有取0. 352、0. 364、0.25，中国、俄罗斯取0. 25。
阳极氧化膜由两层组成，多孔的厚的外层是在具有介电性质的致密的内层上上成长起来的，后者称为
阻挡层(也称活性层)。用电子显微镜观察研究，膜层的纵横面几乎全都呈现与金属表面垂直的管状孔，全自动阳极氧化设备，
它们贯穿膜外层直至氧化膜与金属界面的阻挡层。以各孔隐为主轴周围是致密的氧化铝构成一-个蜂窝六棱
体，称为晶胞，整个膜层是又无数个这样的晶胞组成。阻挡层是又无水的氧化铝所组成，阳极氧化，薄而致密，具有
高的硬度和阻止电流通过的作用。阻挡层厚约0.03-0. 05μm，为总膜后的0. 5%-2.0%。氧化膜多孔的外层
主要是又非晶型的氧化铝及小量的水合氧化铝所组成，此外还含有电解液的阳离子。当电解液为硫酸时，
膜层中硫酸盐含量在正常情况下为13%-17%。氧化膜的大部分优良特性都是由多孔外层的厚度及孔隙率所
觉决定的，它们都与阳极氧化条件密切相关。
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